Último caso de la empresa sobre Guangzhou Cleanroom Construction Co., Ltd. Certificaciones

En industrias de alta gama como la fabricación de semiconductores, la biomedicina y la electrónica de precisión, la estabilidad ambiental de la sala limpia determina directamente el rendimiento del producto, la consistencia del proceso,y fiabilidad de la investigación.

Para cumplir con los requisitos de control cada vez más estrictos, laLa unidad de aire de maquillaje + unidad de filtro de ventilador + unidad de bobina secaLa arquitectura se ha convertido en la solución principal para las salas limpias modernas.temperatura, humedad, limpieza y presión, mejorando significativamente la eficiencia energética y la flexibilidad operativa.En este artículo se explican sistemáticamente las tecnologías de control clave del sistema MAU + FFU + DCC e ilustra cómo la coordinación multidimensional crea una, un ambiente de sala limpia de alto rendimiento.

El sistema MAU + FFU + DCC adopta unaestrategia jerárquica de tratamiento del aire, en el que cada subsistema desempeña una función específica:

• Regulación primaria de la temperatura y la humedad
• Filtración en varias etapas G4 + F8
• Suministro estable de aire acondicionado exterior

• Filtración HEPA o ULPA
• Entrega unidireccional del flujo de aire
• Soporta entornos de clase ISO 5 a clase ISO 1

• Recorte de temperatura local
• Compensación rápida de las cargas térmicas del equipo
• Asegura una distribución uniforme de la temperatura ambiente

Juntos, esto¢Preprocesamiento → Purificación → Control fino"La arquitectura proporciona una mayor precisión, flexibilidad y eficiencia energética que los sistemas HVAC centralizados tradicionales.

En la litografía de semiconductores, por ejemplo, una desviación de sólo0.1°Cpuede afectar la alineación del patrón.

El sistema MAU + FFU + DCC logra un control de temperatura de varios niveles:

MAU Reglamento primario

• Control PID adaptativo de las bobinas de calefacción y refrigeración
• Estabilidad de la temperatura del aire fresco dentro± 0,5°C
• Respuesta dinámica a los cambios de carga

FFU Optimización del flujo de aire

• Diseño uniforme de la matriz
• Velocidad típica de la cara:0.3·0,5 m/s
• Reduce la estratificación térmica y los puntos calientes locales

Compensación térmica en tiempo real

• Los objetivos son el calor de las herramientas de litografía, biorreactores, equipos de grabado
• Ajusta el flujo de agua fría al instante
• Mantiene la uniformidad de la temperatura ambiente dentro de± 0,2°C

Referencia del caso
Una fábrica de semiconductores de 12 pulgadas logró± 0,1°CEstabilidad de la habitación después de implementar un control coordinado de MAU-DCC, mejorando el rendimiento litográfico en aproximadamenteEl 3%.

La humedad afecta directamente la descarga electrostática, la corrosión, el crecimiento microbiano y la estabilidad del proceso.

MAU ️ Ajuste de la humedad principal

• Los demás aparatos para la fabricación de máquinas y aparatos para la fabricación de máquinas y aparatos
• Condensación o deshumidificación por rotación
• Precisión de control de hasta± 2% de HRC

Ejemplo:Los talleres de liofilización suelen requerir30~40% de H.R.para evitar la absorción de humedad.

FFU ¢ Distribución uniforme

• Elimina las zonas estancadas y las esquinas sin salida
• Previene la acumulación local de alta humedad

Coordinación de la UMA + del DCC

• La UMA controla la humedad absoluta
• DCC ajusta la temperatura de la bobina
• Temperatura de la superficie de la bobina mantenida1°2°C por encima del punto de rocíopara evitar la condensación

La limpieza sigue siendo el principal indicador de rendimiento de cualquier sala limpia.

Prefiltración del MAU

• Filtro primario G4
• F8 filtro de eficiencia media
• Elimina las partículas grandes y protege la vida útil de la FFU

Filtración terminal de la FFU

• HEPA: ≥ 99,97% @ 0,3 μm
• ULPA: ≥ 99,999% @ 0,12 μm
• Apoya la clase ISO 5 y superior

Organización del flujo de aire

• Flujo unidireccional vertical
• Cobertura de las FFU:60 ‰ 100%
• Crea un efecto de pistón estable, empujando contaminantes hacia las rejillas de aire de retorno

Referencia de rendimiento
En el0.45 m/svelocidad del flujo de aire, la concentración de partículas ≥ 0,5 μm puede reducirse a
< 35 partículas/ft3 (clase ISO 5).

La presión positiva garantiza que las áreas limpias permanezcan protegidas de la contaminación externa.

Control del volumen de aire fresco (MAU)

• Los sensores de presión diferencial controlan la presión en el ambiente
• Diferencia de presión típica:10 ̊30 Pa

Zonificación jerárquica

• Entre las zonas de las clases ISO 5 y 7
• Gradiente de presión:5 ‰ 10 Pa

Protección de emergencia

• Alarmas automáticas activadas por caída de presión
• Los ventiladores de respaldo se activan inmediatamente.
• Previene la contaminación en condiciones anormales

Los sistemas modernos MAU + FFU + DCC integran la automatización inteligente para la precisión y la eficiencia.

• Monitoreo en tiempo real de más de 30 parámetros
• Análisis de tendencias y almacenamiento de datos históricos
• Visualización centralizada del sistema

Cuando una herramienta de gran carga comienza a funcionar, el sistema:

• Aumenta la capacidad de la bobina de enfriamiento
• Aumenta la salida de DCC
• Restablece la estabilidad ambiental dentro de10 segundos.

Monitoreo continuo de:

• Corriente del motor FFU
• Caída de la presión del filtro
• Rendimiento de la bobina DCC

Permite la detección temprana de:

• Envejecimiento motor
• Obstrucción del filtro
• Resistencia anormal al flujo de aire

La optimización impulsada por la IA regula:

• Cantidad de explotación de las FFU
• Proporción de aire fresco
• Compatibilidad de la carga de temperatura y humedad

Resultando enAhorro de energía del 20 al 30%, especialmente en las grandes fábricas de semiconductores.

• - ¿Qué es eso?Prueba del inversor, resistencia del filtro, respuesta T/H
• En el caso de las empresas:uniformidad del flujo de aire (± 10%), ensayo de fuga HEPA, ruido ≤ 65 dB
• DCC: ¿ Qué está pasando?precisión del caudal de agua (± 5%), verificación del intercambio de calor

• Condiciones extremas simuladas
• Contadores de partículas de alta precisión (0,1 μm)
• Más de 50 puntos de vigilancia con registro de 10 segundos

• Control de FFU variable durante el funcionamiento de carga parcial
• Ciclos típicos de sustitución del filtro:
  • Primaria: 1 ¢3 meses
  • Mediano: 6 a 12 meses
  • HEPA: 2 ¢ 3 años

El...El valor de las emisiones de CO2El sistema de salas limpias representa una transición del cumplimiento básico al control ambiental inteligente y ágil.

A través de la gestión coordinada de la temperatura, humedad, limpieza,Esta arquitectura ofrece la estabilidad y precisión requeridas para la fabricación de semiconductores., la biotecnología y otras aplicaciones de gama alta.

Como proveedor profesional de soluciones de ingeniería de salas limpias, ofrecemos:

• Diseño del sistema
• Selección del equipo
• Integración de control inteligente
• Posición en servicio y optimización
• Apoyo completo del ciclo de vida

Si usted está planeando o mejorando una sala limpia de alta precisión, nuestro equipo de ingeniería está listo para ayudarle a lograrrendimiento de control ambiental de clase mundial.